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铜靶材

铜靶材是用于（PVD）工艺的沉要资料 ，它拥有卓越的导电性、导热性和化学不变性 ，且可塑性强 ，易于加工和成型 ，可造备分歧状态和尺寸的靶材以适应分歧的溅射设备。宽泛用于电子、半导体和光学领域、多个工业领域 ，用于造备导电薄膜和电子元件。此表还可用于装璜资料、光学图层、电子设备散热 ，太阳能电池的电极等。

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产品详情

品名

铜靶材

成分

Cu

表观

铜色 ，平板或者圆筒状

纯度(%)

99.99%

规格(mm)

?125×?155×L1188、?125×?171×L2940、W1130×L1200×T10

杂质≤ (ppm)

Fe

Pb

As

Ni

Sb

Mn

Mg

Sn

Zn

Bi

Sum

30

10

20

10

10

10

10

10

10

10

100



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